这个专利技术描述中，涵盖极紫外光方面的相关技术，也就是说华为也在研究光刻机极紫外光的新专利，看来华为对光刻机领域的攻克一直都在进行中，而这次公布的光刻技术，充分说明了华为获得了阶段性的突破，未来结合其他企业，我相信属于我们自己，百分百国产化的光刻机也不会太远了 该专利申请于2021年5月13日，专利主要讲述反射镜，光刻装置及其控制方法
